宇之光光绘机.深圳市好创好科技有限公司供应.宇之光激光光绘机是用激光对菲林进行扫描产生图形的,其原理正如电视机显像管中电子枪扫描屏幕上的荧光物质一样。首先,将印制电路板的图面映像到一个大存储阵列中,然后使激光束按照存储阵列中相应单元的值被打开或关闭(调制),从而得到所需要的工艺菲林。激光光绘机采用激光做光源,有容易聚焦、能量集中等优点,对瞬间快速的底片曝光非常有利,绘制的底片边缘整齐、反差大、不虚光。曝光采用扫描式,无论密度多大,均能在最短时间内完成曝光,绘制一张底片只需几分钟。因此成为当今光绘行业的主流。 激光光绘机的光源多采用气体激光器,如氩、氦和氖等。气体激光器的光源强度大但寿命却有限,约6000~10000h,因此使用一年多就需要更换光源。现在一些光绘机生产厂家采用了半导体激光器作为光源,但较大功率的半导体激光器的生产还不很成熟。 由CAD产生的设计数据转换成光绘数据(多为Gerbei数据)经CAM系统进行处理,完成光绘预处理(拼版、镜像等)。将处理完的数据送入光绘机,由光绘机的光栅(Raster)数据处理器转换成光栅数据,此光栅数据直接驱动激光光绘机,完成光绘。 详情请了解.
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