1、曝光即是在紫外光照射下，使干膜和湿膜中的光引发剂分解成游离基，游离基在引发光聚合单体进行聚合交连反应，反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构胶膜，实现印制电路板的图像转移。
三、主要技术参数：
　1、曝光面积：600×700mm
　2、光源功率：采用2支2kw/2kw光化学碘镓灯，功率可转换。
　3、曝光控制：采用时间定时补偿式控制，  
　4、程序控制：抽失真空，开闭快门，与曝光架进出实行连锁控制。
5、工作环境温度22±2℃
6、整机功率13kw。
7、电源：AC　380三相四线50Hz。
8、外型尺寸：1960×1270×1800（mm）
9、整机重量：450kg